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什么是光刻机的焦深（DOF）？ - 知乎
在光刻中，焦深指的是晶片的表面可以上下移动的距离范围，而不会导致图案分辨率显著下降。 在透镜的焦点周围会有一个范围，在这个范围内的光刻胶能够清晰地曝光，如果超出这个范围，曝光的图像就会模糊，导致图案转移不均匀。
曝光机focus
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曝光-能量矩阵 Focus-Energy Matrix，（FEM）
曝光-能量矩阵（Focus-Energy Matrix，FEM）是用来检查光刻工艺窗口和确定最佳曝光条件的测试方法，通过在一个硅片上的不同区域使用不同的曝光焦距和能量可以产生不同工艺条件的组合，通过此方法可以在一个硅片上进行实验确定聚焦深度、曝光量所允许的范围 ...
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焦距能量矩阵_百度百科
焦距能量矩阵（Focus Energy Matrix, FEM）是光刻工艺中通过固定步长改变聚焦值和曝光能量形成的二维数据矩阵，其设置包括晶圆上不同曝光区域（shot）的焦距步进与能量步进，形成聚焦-能量条件矩阵结构。
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FEM与曝光能量宽裕度_focus_energy_半导体 - 搜狐
Dec 14, 2024 · 在上图中，横坐标代表不同的energy，纵坐标代表不同的focus，可以看到在这片wafer上，每一行die的focus一样, energy不一样; 而每一列的energy一样，focus不一样。 光刻工程师需要在光刻机曝光recipe上设定好FEM曝光参数，按这样的recipe进行执行。
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曝光机 - 佛仪科技（佛山）有限公司
曝光机是通过光学系统将掩膜版图案转移到涂覆光刻胶的基底上，是微电子、光电子制造中高精度图案转移的关键工序。 佛仪科技的曝光机产品针对高精度套刻工艺优化设计，支持接触式/接近式双曝光模式，适配不同光刻胶与基底的工艺兼容性需求。
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光刻技术中的聚焦控制-托托科技（苏州）有限公司
May 10, 2024 · 光刻技术中的聚焦控制 一、引言 光刻技术在集成电路量产制造中有着重要作用，随着集成电路产业的快速发展，对光刻机性能的要求也越来越高。 为了保证曝光质量，在光刻机曝光过程中必须使硅片表面位于焦深范围内，否则会严重影响集成电路的生产良率。
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光刻机聚焦系统 - 知乎 - 知乎专栏
Mar 11, 2024 · 1.什么是聚焦在光刻机中，聚焦指的是将光束准确地汇聚到晶圆表面的一个特定点上，以形成所需的图像或图案。 这个聚焦过程是通过调整光学元件（如透镜或反射镜）的位置和参数来实现的，以确保光束能够以最小的光斑尺…