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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司

原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于自限性表面化学反应的纳米级薄膜沉积技术。 其核心工艺通过交替通入气相前驱体与反应物至反应腔,使两者在基底表面发生逐层饱和 …